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Communication dans un congrès

Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324800
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 22 octobre 2019 - 09:41:13
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:04:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-02324800, version 1

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Citation

J.-P. Landesman, M. Fouchier, E. Pargon, N. Rochat, D.T. Cassidy, et al.. Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 11th International Workshop, May 2019, Grenoble, France. ⟨hal-02324800⟩

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