Communication Dans Un Congrès
Année : 2019
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324790
Soumis le : mardi 22 octobre 2019-09:38:41
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:38
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02324790 , version 1
Citer
L. Youssef, E. Pargon, C. Petit-Etienne, H. El Dirani, C. Sciancalepore. Plasma etching processes for the fabrication of a low-loss SiN micro-resonator and low power threshold of parametric oscillations. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 11th International Workshop, May 2019, Grenoble, France. ⟨hal-02324790⟩
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