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Communication dans un congrès

Plasma etching processes for the fabrication of a low-loss SiN micro-resonator and low power threshold of parametric oscillations

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324790
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 22 octobre 2019 - 09:38:41
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:04:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-02324790, version 1

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Citation

L. Youssef, E. Pargon, C. Petit-Etienne, H. El Dirani, C. Sciancalepore. Plasma etching processes for the fabrication of a low-loss SiN micro-resonator and low power threshold of parametric oscillations. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 11th International Workshop, May 2019, Grenoble, France. ⟨hal-02324790⟩

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