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Communication dans un congrès
Plasma-induced damage during III-V semiconductor patterning for photonic and photovoltaic applications: from characterization to minimization
E. Pargon
1
M.De Lafontaine
1, 2, 3
M. Fouchier
1
C. Petit-Etienne
1
G. Gay
1
S. Labau
1
N. Rochat
4
J-P Barnes
4
M. Darnon
1, 2, 3
J-P Landesman
5
E. Pargon 1
Auteur IdHAL : erwine-pargon ORCID : https://orcid.org/0000-0002-6337-9180
M.De Lafontaine 1, 2, 3
Auteur
M. Fouchier 1
Auteur
C. Petit-Etienne 1
Auteur
M. Darnon 1, 2, 3
Auteur IdHAL : maxime-darnon ORCID : https://orcid.org/0000-0002-6188-7157
J-P Landesman 5
Auteur
1
LTM [2016-2019] - Laboratoire des technologies de la microélectronique [2016-2019] (LETI/DTS 17 rue des martyrs 38054 GRENOBLE CEDEX 9 - France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR5129 (France)
- UGA [2016-2019] - Université Grenoble Alpes [2016-2019] (CS 40700 - 38058 Grenoble cedex - France)
2
LN2 [2011-2019] - Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [2011-2019] (Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463,
Université de Sherbrooke,
3000 Boulevard Université,
J1K OA5, Québec, Canada - Canada)
- Université de Sherbrooke [Sherbrooke] (2500 boul. de l'Université, Sherbrooke, Québec J1K 2R1 - Canada)
- ECL - École Centrale de Lyon : UMI-3463 (36 avenue Guy de Collongue - 69134 Ecully cedex - France)
- Université de Lyon (92 rue Pasteur - CS 30122, 69361 Lyon Cedex 07 - France)
- CPE - École supérieure de Chimie Physique Electronique de Lyon (Domaine Scientifique de la Doua Bâtiment Hubert Curien 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 69616 Villeurbanne - France)
- INSA Lyon - Institut National des Sciences Appliquées de Lyon : UMI-3463 (20 Avenue Albert Einstein,
69621 Villeurbanne cedex - France)
- Université de Lyon (92 rue Pasteur - CS 30122, 69361 Lyon Cedex 07 - France)
- INSA - Institut National des Sciences Appliquées (France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMI-3463 (France)
- UGA [2016-2019] - Université Grenoble Alpes [2016-2019] : UMI 3463 (CS 40700 - 38058 Grenoble cedex - France)
3
3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique (Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique (3IT), Université de Sherbrooke, 3000 Boulevard Université, J1K OA5, Québec, Canada - Canada)
- Université de Sherbrooke [Sherbrooke] (2500 boul. de l'Université, Sherbrooke, Québec J1K 2R1 - Canada)
4
CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (MINATEC 17, rue des Martyrs, 38054, Grenoble Cedex 9 - France)
- DRT (CEA) - Direction de Recherche Technologique (CEA) : DRT (France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives : DRT (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
5
UNIV-RENNES - Université de Rennes (France)
Type de document :
Communication dans un congrès
Domaine :
Liste complète des métadonnées
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324729
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 22 octobre 2019 - 09:22:19
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:04:05
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 22 octobre 2019 - 09:22:19
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:04:05
Identifiants
- HAL Id : hal-02324729, version 1
Collections
Citation
E. Pargon, M.De Lafontaine, M. Fouchier, C. Petit-Etienne, G. Gay, et al.. Plasma-induced damage during III-V semiconductor patterning for photonic and photovoltaic applications: from characterization to minimization. 18th conference on defects recognition, imaging and physics in semiconductors (DRIP XVIII), Sep 2019, Berlin, Germany. ⟨hal-02324729⟩
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