Tilted beam scanning electron microscopy, 3-D metrology for microelectronics industry - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Année : 2019

Tilted beam scanning electron microscopy, 3-D metrology for microelectronics industry

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02324657

Soumis le : mardi 22 octobre 2019-08:45:32

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

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Dates et versions

hal-02324657 , version 1 (22-10-2019)

Identifiants

Citer

Charles Valade, Jérôme Hazart, Sébastien Bérard-Bergery, Elodie Sungauer, Maxime Besacier, et al.. Tilted beam scanning electron microscopy, 3-D metrology for microelectronics industry. Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2019, 18 (03), pp.1. ⟨10.1117/1.JMM.18.3.034001⟩. ⟨hal-02324657⟩

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