Analyse par XPS d’empilements high-k metal gate et corrélation des décalages d’énergie de liaison à la présence de charge - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Analyse par XPS d’empilements high-k metal gate et corrélation des décalages d’énergie de liaison à la présence de charge

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01961096 , version 1 (19-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01961096 , version 1

Citer

Charly Fontaine, Bernard Pelissier, Mickael Gros-Jean, Thierry Chevolleau. Analyse par XPS d’empilements high-k metal gate et corrélation des décalages d’énergie de liaison à la présence de charge. ELSPEC 2018, Jun 2018, Biarritz, France. ⟨hal-01961096⟩
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