In situ and ex situ monitoring and metrology for the development of a selective deposition process - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

In situ and ex situ monitoring and metrology for the development of a selective deposition process

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01959042

Soumis le : mardi 18 décembre 2018-14:04:15

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:40:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01959042 , version 1 (18-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01959042 , version 1

Citer

C. Vallee, R. Gassilloud, B. Pelissier, R. Vallat, V. Pesce, et al.. In situ and ex situ monitoring and metrology for the development of a selective deposition process. 18th International Conference on Atomic layer Deposition (ALD2018), Jul 2018, Incheon, South Korea. ⟨hal-01959042⟩

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