Growth of Germanium-Tin nanowires by Chemical Vapor Deposition via the VLS mechanism - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Growth of Germanium-Tin nanowires by Chemical Vapor Deposition via the VLS mechanism

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01954888 , version 1 (14-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01954888 , version 1

Citer

T. Haffner, F. Bassani, P. Gentile, A. Gassenq, N. Pauc, et al.. Growth of Germanium-Tin nanowires by Chemical Vapor Deposition via the VLS mechanism. EMRS Fall meeting 2018, 2018, Varsovie, Poland. ⟨hal-01954888⟩
71 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More