Graphoepitaxy integration and pattern transfer of lamellar silicon-containing high-chi block copolymers - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Graphoepitaxy integration and pattern transfer of lamellar silicon-containing high-chi block copolymers

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01954390

Soumis le : jeudi 13 décembre 2018-16:00:56

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:04:23

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01954390 , version 1 (13-12-2018)

Identifiants

Citer

Marc Zelsmann, Philippe Bézard, Xavier Chevalier, Antoine Legrain, Christophe Navarro, et al.. Graphoepitaxy integration and pattern transfer of lamellar silicon-containing high-chi block copolymers. SPIE Advanced Lithography, 2018, San José, United States. ⟨10.1117/12.2299337⟩. ⟨hal-01954390⟩

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