SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies

Amine Lakcher
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Laurent Bidault
Julien Ducote
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
Etienne Mortini
  • Fonction : Auteur
Alain Ostrovsky
  • Fonction : Auteur
Bertrand Le-Gratiet
  • Fonction : Auteur
Ludovic Berthier
Clémence Jamin-Mornet
Maxime Besacier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Jongwook Kye
  • Fonction : Auteur
Soichi Owa
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01948097

Soumis le : vendredi 7 décembre 2018-13:57:52

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:52:48

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01948097 , version 1 (07-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01948097 , version 1

Citer

Amine Lakcher, Laurent Bidault, Julien Ducote, Etienne Mortini, Alain Ostrovsky, et al.. SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies. SPIE Advanced Lithography, 2018, San José, United States. ⟨hal-01948097⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM LITHOGRAPHY
58 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More