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Communication dans un congrès

SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01948097
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : vendredi 7 décembre 2018 - 13:57:52
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-01948097, version 1

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Citation

Amine Lakcher, Laurent Bidault, Julien Ducote, Etienne Mortini, Alain Ostrovsky, et al.. SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies. SPIE Advanced Lithography, 2018, San José, United States. ⟨hal-01948097⟩

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