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Communication dans un congrès

Improvement of Sidewall Roughness of Sub-Micron SOI Waveguides by Hydrogen Plasma and Annealing

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942772
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : lundi 3 décembre 2018 - 14:25:00
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:28

Identifiants

  • HAL Id : hal-01942772, version 1

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Citation

C. Bellegarde, Erwine Pargon, C. Sciancalepore, Camille Petit-Etienne, J.-M. Hartmann. Improvement of Sidewall Roughness of Sub-Micron SOI Waveguides by Hydrogen Plasma and Annealing. IEEE International Photonics Conference (IPC 2018), Sep 2018, Rexton, United States. ⟨hal-01942772⟩

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