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Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942735
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : lundi 3 décembre 2018 - 14:08:33
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-01942735, version 1

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Citation

Marion Croisy, Erwine Pargon, Cécile Jenny, Claire Richard, Denis Guiheux, et al.. Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, AVS through the American Institute of Physics, 2018, 36 (1), pp.011201. ⟨hal-01942735⟩

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