Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions

Marion Croisy; Erwine Pargon; Cécile Jenny; Claire Richard; Denis Guiheux; Denis Mariolle; Christophe Poulain; Alain Campo; Nicolas Posseme

doi:10.1116/1.5004127

Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2018

Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions

(1, 2) , (2) , (1) , , , (3) , (3) , , (3)

1
2
3

Marion Croisy

Fonction : Auteur
PersonId : 1003517

STMicroelectronics [Crolles]

Laboratoire des technologies de la microélectronique

Erwine Pargon

Fonction : Auteur
PersonId : 180469
IdHAL : erwine-pargon
ORCID : 0000-0002-6337-9180

Laboratoire des technologies de la microélectronique

Cécile Jenny

Fonction : Auteur

STMicroelectronics [Crolles]

Claire Richard

Fonction : Auteur
PersonId : 738470
IdHAL : claire-richard
ORCID : 0000-0001-6520-5494
IdRef : 139511369

Denis Guiheux

Fonction : Auteur

Denis Mariolle

Fonction : Auteur
PersonId : 1355118
IdHAL : denis-mariolle

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

CV

Christophe Poulain

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Alain Campo

Fonction : Auteur

Nicolas Posseme

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942735

Soumis le : lundi 3 décembre 2018-14:08:33

Dernière modification le : jeudi 18 avril 2024-12:49:01

Dates et versions

hal-01942735 , version 1 (03-12-2018)

Identifiants

HAL Id : hal-01942735 , version 1
DOI : 10.1116/1.5004127

Citer

Marion Croisy, Erwine Pargon, Cécile Jenny, Claire Richard, Denis Guiheux, et al.. Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2018, 36 (1), pp.011201. ⟨10.1116/1.5004127⟩. ⟨hal-01942735⟩

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