Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2018

Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942735

Soumis le : lundi 3 décembre 2018-14:08:33

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

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Dates et versions

hal-01942735 , version 1 (03-12-2018)

Identifiants

Citer

Marion Croisy, Erwine Pargon, Cécile Jenny, Claire Richard, Denis Guiheux, et al.. Characterization of photoresist films exposed to high-dose implantation conditions. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2018, 36 (1), pp.011201. ⟨10.1116/1.5004127⟩. ⟨hal-01942735⟩

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