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Improvement of Sidewall Roughness of Submicron SOI Waveguides by Hydrogen Plasma and Annealing

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01942732
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : lundi 3 décembre 2018 - 14:07:23
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:28

Identifiants

  • HAL Id : hal-01942732, version 1

Citation

Cyril Bellegarde, Erwine Pargon, Corrado Sciancalepore, Camille Petit-Etienne, Vincent Hugues, et al.. Improvement of Sidewall Roughness of Submicron SOI Waveguides by Hydrogen Plasma and Annealing. IEEE Photonics Technology Letters, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2018, 30 (7), pp.591-594. ⟨hal-01942732⟩

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