Different approaches to reduce DSA defectivity by dry-etching - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Different approaches to reduce DSA defectivity by dry-etching

P. Bézard
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
G. Cunge
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
X. Chevalier
  • Fonction : Auteur
G. Lombard
  • Fonction : Auteur
A. Legrain
  • Fonction : Auteur
M. Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01930204

Soumis le : mercredi 21 novembre 2018-16:38:19

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:06

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01930204 , version 1 (21-11-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01930204 , version 1

Citer

P. Bézard, G. Cunge, X. Chevalier, G. Lombard, A. Legrain, et al.. Different approaches to reduce DSA defectivity by dry-etching. Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop – PESM 2017, Oct 2017, Leuven (Belgique), Belgium. ⟨hal-01930204⟩

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