Materials meeting electronic requirements for Sub-10 nm lithography - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Materials meeting electronic requirements for Sub-10 nm lithography

C. Navarro
  • Fonction : Auteur
C. Nicolet
  • Fonction : Auteur
X. Chevalier
  • Fonction : Auteur
K. Xu
  • Fonction : Auteur
M. A. Hockey
  • Fonction : Auteur
G. Fleury
G. Hadziioannou
A. Legrain
  • Fonction : Auteur
M. Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique
L. Pain
  • Fonction : Auteur
I. Cayrefourcq
  • Fonction : Auteur
Arkema

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01930180

Soumis le : mercredi 21 novembre 2018-16:29:21

Dernière modification le : lundi 22 avril 2024-18:45:23

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01930180 , version 1 (21-11-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01930180 , version 1

Citer

C. Navarro, C. Nicolet, X. Chevalier, K. Xu, M. A. Hockey, et al.. Materials meeting electronic requirements for Sub-10 nm lithography. Directed Self-Assembly Symposium – DSA 2017, Oct 2017, Chicago (USA), United States. ⟨hal-01930180⟩

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