Dry strip efficiency and blisters formation mechanism during High Dose Implant Stripping - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Dry strip efficiency and blisters formation mechanism during High Dose Implant Stripping

M. Croisy
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
C. Jenny
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
C. Richard
  • Fonction : Auteur
D. Guiheux
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
S. Joblot
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
E. Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
A. Campo
  • Fonction : Auteur
N. Posseme
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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Soumis le : mardi 9 octobre 2018-15:18:23

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:28

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01891400 , version 1 (09-10-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01891400 , version 1

Citer

M. Croisy, C. Jenny, C. Richard, D. Guiheux, S. Joblot, et al.. Dry strip efficiency and blisters formation mechanism during High Dose Implant Stripping. SEMATECH Surface Preparation and Cleaning Conference (SPCC), Mar 2017, Austin, United States. ⟨hal-01891400⟩

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