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Communication dans un congrès

Chlorine-based etching of InP laser : effect of plasma chemistry on sidewall roughness and damages

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882766
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 13:32:17
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:17

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882766, version 1

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Citation

G. Gay, E. Pargon, C. Petit-Etienne, M. Brihoum, S. Barnola, et al.. Chlorine-based etching of InP laser : effect of plasma chemistry on sidewall roughness and damages. 65th International AVS Symposium & Topical Conferences, Nov 2016, Nashville, USA, United States. ⟨hal-01882766⟩

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