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Communication dans un congrès

Processes Plasma etching of InP using Cl2/CH4/Ar for hybrid photonic integration on silicon

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882455
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 09:18:05
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:17

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882455, version 1

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Citation

G. Gay, E. Pargon, C. Petit-Etienne, M. Brihoum, S. Barnola. Processes Plasma etching of InP using Cl2/CH4/Ar for hybrid photonic integration on silicon. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 9th International Workshop, May 2016, Grenoble, France. ⟨hal-01882455⟩

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