Spectral analysis of sidewall roughness during resist-core self-aligned double patterning integration - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics Année : 2016

Spectral analysis of sidewall roughness during resist-core self-aligned double patterning integration

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882435

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-09:00:40

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:34:25

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Dates et versions

hal-01882435 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

Citer

Emmanuel Dupuy, Erwine Pargon, Marc Fouchier, H. Grampeix, J. Pradelles. Spectral analysis of sidewall roughness during resist-core self-aligned double patterning integration. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2016, 34 (5), ⟨10.1116/1.4962322⟩. ⟨hal-01882435⟩

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