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Spectral analysis of sidewall roughness during resist-core self-aligned double patterning integration

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882435
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 09:00:40
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

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Emmanuel Dupuy, Erwine Pargon, Marc Fouchier, H. Grampeix, J. Pradelles. Spectral analysis of sidewall roughness during resist-core self-aligned double patterning integration. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, AVS through the American Institute of Physics, 2016, 34 (5), ⟨10.1116/1.4962322⟩. ⟨hal-01882435⟩

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