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Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO 2 layer growth on RuO 2 by atomic layer deposition with O 2 plasma or H 2 O as oxygen source

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882433
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 27 septembre 2018 - 08:56:59
Dernière modification le : jeudi 30 juillet 2020 - 03:00:41

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A. Chaker, P. Szkutnik, J. Pointet, P. Gonon, Corentin Vallée, et al.. Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO 2 layer growth on RuO 2 by atomic layer deposition with O 2 plasma or H 2 O as oxygen source. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2016, 120 (8), ⟨10.1063/1.4960139⟩. ⟨hal-01882433⟩

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