Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO 2 layer growth on RuO 2 by atomic layer deposition with O 2 plasma or H 2 O as oxygen source - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2016

Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO 2 layer growth on RuO 2 by atomic layer deposition with O 2 plasma or H 2 O as oxygen source

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882433

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-08:56:59

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Dates et versions

hal-01882433 , version 1 (27-09-2018)

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Citer

A. Chaker, P. Szkutnik, J. Pointet, P. Gonon, Corentin Vallée, et al.. Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO 2 layer growth on RuO 2 by atomic layer deposition with O 2 plasma or H 2 O as oxygen source. Journal of Applied Physics, 2016, 120 (8), ⟨10.1063/1.4960139⟩. ⟨hal-01882433⟩

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