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SIMS depth profiling and topography studies of repetitive III–V trenches under low energy oxygen ion beam sputtering

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01881953
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 26 septembre 2018 - 14:23:21
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:17

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Viktoriia Gorbenko, Franck Bassani, Alexandre Merkulov, Thierry Baron, Mickaël Martin, et al.. SIMS depth profiling and topography studies of repetitive III–V trenches under low energy oxygen ion beam sputtering. Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, AVS through the American Institute of Physics, 2016, 34 (3), ⟨10.1116/1.4944632⟩. ⟨hal-01881953⟩

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