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Depth profiling analysis of HfON on SiON ultrathin films by parallel angle resolved x-ray photoelectron spectroscopy and medium energy ion scattering

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01881936
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 26 septembre 2018 - 14:14:46
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

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Laurent Fauquier, Bernard Pelissier, Denis Jalabert, Francois Pierre, Delphine Doloy, et al.. Depth profiling analysis of HfON on SiON ultrathin films by parallel angle resolved x-ray photoelectron spectroscopy and medium energy ion scattering. Surface and Interface Analysis, Wiley-Blackwell, 2016, 48 (7), pp.436 - 439. ⟨10.1002/sia.5917⟩. ⟨hal-01881936⟩

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