Potential Solutions for Atomic Precision Etching - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01878051 , version 1 (20-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878051 , version 1

Citer

O. Joubert, E. Despiau-Pujo, G. Cunge, P. Brichon, J Dubois, et al.. Potential Solutions for Atomic Precision Etching. SPIE Advanced Etch Technology for Nanopatterning IV, Feb 2015, San José, United States. ⟨hal-01878051⟩
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