Low Pressure Plasma Cleaning and Doping of CVD Graphene - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01878405 , version 1 (21-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878405 , version 1

Citer

D. Marinov, G. Cunge, D. Ferrah, E.V. Johnson, J.P. Booth. Low Pressure Plasma Cleaning and Doping of CVD Graphene. AVS 62nd International Symposium & Exhibition, 2015, San José, United States. ⟨hal-01878405⟩
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