Directed self-assembly process for high-X PS-b-PDMS diblock copolymer compatible with microelectronics environment - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Directed self-assembly process for high-X PS-b-PDMS diblock copolymer compatible with microelectronics environment

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Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01877293

Soumis le : mercredi 19 septembre 2018-15:45:53

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:41:47

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01877293 , version 1 (19-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01877293 , version 1

Citer

J. Garnier, S. Böhme, C. Girardot, S. Arnaud, J. Arias-Zapatta, et al.. Directed self-assembly process for high-X PS-b-PDMS diblock copolymer compatible with microelectronics environment. European Materials Research Society conference- E-MRS 2015, Spring Meeting, May 2015, Lille, France. ⟨hal-01877293⟩

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