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Communication dans un congrès

Spectral analysis of the line-width and line-edge roughness transfer during self-aligned double patterning approach

Type de document :
Communication dans un congrès
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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01869175
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 6 septembre 2018 - 12:20:58
Dernière modification le : vendredi 17 juillet 2020 - 09:10:08

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E. Dupuy, E. Pargon, M. Fouchier, H. Grampeix, J. Pradelles, et al.. Spectral analysis of the line-width and line-edge roughness transfer during self-aligned double patterning approach. SPIE Advanced Lithography, SPIE, 2015, San Jose, United States. pp.94280B, ⟨10.1117/12.2085812⟩. ⟨hal-01869175⟩

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