Communication Dans Un Congrès
Année : 2024
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-04750024
Soumis le : mercredi 23 octobre 2024-13:08:43
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:28:42
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04750024 , version 1
Citer
L Jaloustre, L Valera, S Sales de Mello, S Labau, C Petit-Etienne, et al.. How to produce high aspect ratio GaN and AlN nanopillar arrays with m-oriented facets by combining dry and wet processes for the fabrication of next generation deep ultraviolet light-emitting diodes ?. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 14th International Workshop, Jun 2024, Leuven, Belgium. ⟨hal-04750024⟩
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