Liquid atomic layer deposition as emergent technology for the fabrication of thin films - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04622158 , version 1 (24-06-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04622158 , version 1

Citer

Octavio Graniel, Josep Puigmartí-Luis, David Munoz-Rojas. Liquid atomic layer deposition as emergent technology for the fabrication of thin films. RAFALD 2021, Nov 2021, Marseille, France. ⟨hal-04622158⟩
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