Controlled nanopatterning and plasma etching of sub-100 nm nanopillars for low dislocation density of pendeo-epitaxy GaN: Towards MicroDisplays - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2023

Controlled nanopatterning and plasma etching of sub-100 nm nanopillars for low dislocation density of pendeo-epitaxy GaN: Towards MicroDisplays

S. Hammami
  • Fonction : Auteur
M. Wehbe
  • Fonction : Auteur
B. Alloing
  • Fonction : Auteur
L. Dupré
  • Fonction : Auteur
M. Charles
  • Fonction : Auteur
J.Zuniga Perez
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04585351 , version 1 (23-05-2024)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04585351 , version 1

Citer

S. Hammami, M. Wehbe, S. Labau, C. Petit-Etienne, B. Alloing, et al.. Controlled nanopatterning and plasma etching of sub-100 nm nanopillars for low dislocation density of pendeo-epitaxy GaN: Towards MicroDisplays. SPIE OPTO, 2023, SAN FRANCISCO, United States. ⟨hal-04585351⟩
0 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Mastodon Facebook X LinkedIn More