Procédé de fabrication d’une couche d’arrêt de gravure pour nanolithographie par autoassemblage dirigé - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2019

Procédé de fabrication d’une couche d’arrêt de gravure pour nanolithographie par autoassemblage dirigé

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03778215

Soumis le : jeudi 15 septembre 2022-14:47:22

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:26

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03778215 , version 1 (15-09-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03778215 , version 1

Citer

X. Chevalier, M. Zelsmann, G. Pound-Lana, P. Bezard, M. Serege. Procédé de fabrication d’une couche d’arrêt de gravure pour nanolithographie par autoassemblage dirigé. France, Patent n° : FR3105755. 2019. ⟨hal-03778215⟩

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