Communication Dans Un Congrès
Année : 2020
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449579
Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-16:03:25
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:45:52
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03449579 , version 1
Citer
Moustapha Jaffal, Taguhi Yeghoyan, Gauthier Lefevre, Thierry Chevolleau, Rémy Gassilloud, et al.. Optimization of a Topographic Selective Deposition (TSD) route by a super-cycle Atomic Layer Disposition (ALD) / Atomic Layer Etching (ALE). 6 ème Workshop RAFALD 2020, Nov 2020, Marseille, France. ⟨hal-03449579⟩
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