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Communication Dans Un Congrès Année : 2020

Optimization of a Topographic Selective Deposition (TSD) route by a super-cycle Atomic Layer Disposition (ALD) / Atomic Layer Etching (ALE)

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449579 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449579 , version 1

Citer

Moustapha Jaffal, Taguhi Yeghoyan, Gauthier Lefevre, Thierry Chevolleau, Rémy Gassilloud, et al.. Optimization of a Topographic Selective Deposition (TSD) route by a super-cycle Atomic Layer Disposition (ALD) / Atomic Layer Etching (ALE). 6 ème Workshop RAFALD 2020, Nov 2020, Marseille, France. ⟨hal-03449579⟩
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