Selective patterning using deposition and etch: case of area selective deposition - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

Selective patterning using deposition and etch: case of area selective deposition

Christophe Vallee
  • Fonction : Auteur
Taguhi Yeghoyan
Nicolas Posseme
  • Fonction : Auteur
Remy Gassilloud
  • Fonction : Auteur
Thierry Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449527 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449527 , version 1

Citer

Christophe Vallee, Marceline Bonvalot, Taguhi Yeghoyan, Moustapha Jaffal, Nicolas Posseme, et al.. Selective patterning using deposition and etch: case of area selective deposition. Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning X (SPIE) 2021, 2021, conference virtuelle, France. ⟨hal-03449527⟩
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