New strategy for topographically selective deposition by low Temperature ion-assisted PE-ALD - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

New strategy for topographically selective deposition by low Temperature ion-assisted PE-ALD

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449486 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449486 , version 1

Citer

Marceline Bonvalot, T. Yeghoyan, M. Jaffal, T. Chevolleau, C. Vallée. New strategy for topographically selective deposition by low Temperature ion-assisted PE-ALD. 5th Area Selective Deposition Workshop (ASD 2021), 2021, conference virtuelle, France. ⟨hal-03449486⟩
17 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Mastodon Facebook X LinkedIn More