New strategy for topographically selective deposition by low Temperature ion-assisted PE-ALD - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

New strategy for topographically selective deposition by low Temperature ion-assisted PE-ALD

Marceline Bonvalot
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
T. Yeghoyan
  • Fonction : Auteur
M. Jaffal
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
C. Vallée
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449486

Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-15:54:44

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:44:36

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449486 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03449486 , version 1

Citer

Marceline Bonvalot, T. Yeghoyan, M. Jaffal, T. Chevolleau, C. Vallée. New strategy for topographically selective deposition by low Temperature ion-assisted PE-ALD. 5th Area Selective Deposition Workshop (ASD 2021), 2021, conference virtuelle, France. ⟨hal-03449486⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM MINASEE PROSPECT RENATECH
18 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Mastodon Facebook X LinkedIn More