Topographic Area Selective Deposition (TSD): a comparison between PEALD/q-ALE and PEALD/sputtering approaches - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2020
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03449336 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

Citer

Moustapha Jaffal, Taguhi Yeghoyan, Vincent Pesce, Gauthier Lefevre, Ahmad Chaker, et al.. Topographic Area Selective Deposition (TSD): a comparison between PEALD/q-ALE and PEALD/sputtering approaches. 7th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2020), Jun 2020, virtuelle, France. ⟨10.1116/6.0000969⟩. ⟨hal-03449336⟩
23 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More