Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2021
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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03449120
Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-15:09:28
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:45:05
Citer
Samia Belahcen, Christophe Vallée, Ahmad Bsiesy, Ahmad Chaker, Moustapha Jaffal, et al.. Control of ion energy during plasma enhanced atomic layer deposition: A new strategy for the modulation of TiN growth delay on SiO 2. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2021, 39 (1), pp.012410. ⟨10.1116/6.0000655⟩. ⟨hal-03449120⟩
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