Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448953
Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-14:28:03
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-10:56:27
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03448953 , version 1
Citer
Nicolas Loubet, Camille Petit-Etienne, Cécile Jenny, Gilles Cunge, Erwine Pargon. Surface and plasma characterization of a self-limited two step etch process for SiN spacer etching applications.. Micro and Nano Engineering Conference, Sep 2021, turin, Italy. ⟨hal-03448953⟩
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