Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448947
Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-14:25:35
Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:23:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03448947 , version 1
Citer
Thibaut Meyer, Sarah Boubenia, Bassem Salem, Camille Petit-Etienne, Erwine Pargon. Impacts of different carrier wafers during Cl2 Inductively Coupled Plasma etching on the GaN surface and the Al2O3/GaN interface. Micro and Nano Engineering Conference, Sep 2021, Turin, Italy. ⟨hal-03448947⟩
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