Cycling process in remote plasma source for selective etching with nanometric control - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

Cycling process in remote plasma source for selective etching with nanometric control

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448944

Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-14:23:12

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:22:28

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03448944 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03448944 , version 1

Citer

E. Pargon, N Loubet, C. Petit-Etienne, G. Cunge, N. Sadeghi, et al.. Cycling process in remote plasma source for selective etching with nanometric control. 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021), Nov 2021, on line conference, France. ⟨hal-03448944⟩

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