Optimization process for the fabrication of ultra-low loss PECVD silicon nitride-on-insulator waveguides - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2021

Optimization process for the fabrication of ultra-low loss PECVD silicon nitride-on-insulator waveguides

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448932

Soumis le : jeudi 25 novembre 2021-14:19:57

Dernière modification le : mardi 28 mai 2024-11:22:45

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03448932 , version 1 (25-11-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03448932 , version 1

Citer

Yannick Bleu, Camille Petit-Etienne, Laurène Youssef, Jonathan Faugier-Tovar, Quentin Wilmart, et al.. Optimization process for the fabrication of ultra-low loss PECVD silicon nitride-on-insulator waveguides. Micro and Nano Engineering Conference, Sep 2021, turin, Italy. ⟨hal-03448932⟩

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