Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Article dans une revue

Comparative study of two atomic layer etching processes for GaN

Type de document :
Article dans une revue
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02917577
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 19 août 2020 - 14:52:26
Dernière modification le : mercredi 30 septembre 2020 - 09:46:16

Identifiants

Collections

Citation

Cédric Mannequin, Christophe Vallée, Katsuhiro Akimoto, Thierry Chevolleau, Christophe Durand, et al.. Comparative study of two atomic layer etching processes for GaN. Journal of Vacuum Science and Technology A, American Vacuum Society, 2020, 38 (3), pp.032602. ⟨10.1116/1.5134130⟩. ⟨hal-02917577⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

89