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Communication dans un congrès

Cycling of implantation step and remote plasma process step for nitride spacer etching applications.

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02912743
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 6 août 2020 - 15:45:37
Dernière modification le : lundi 17 août 2020 - 14:23:00

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Nicolas Loubet, Cecile Jenny, Camille Petit-Etienne, Erwine Pargon. Cycling of implantation step and remote plasma process step for nitride spacer etching applications.. Advanced Etch Technology for Nanopatterning IX, Feb 2020, San Jose, United States. pp.16, ⟨10.1117/12.2551888⟩. ⟨hal-02912743⟩

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