Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2018

Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02364471

Soumis le : vendredi 15 novembre 2019-07:30:50

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02364471 , version 1 (15-11-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02364471 , version 1

Citer

J. Arias-Zapata, D. Ferrah, H. Mehedi, G. Cunge, M. Zelsmann. Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2018, 36 (5), pp.05G505. ⟨hal-02364471⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM DRT LETI CEA-GRE
83 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More