Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2018

Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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Soumis le : vendredi 15 novembre 2019-07:30:50

Dernière modification le : jeudi 18 avril 2024-12:46:22

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Dates et versions

hal-02364471 , version 1 (15-11-2019)

Identifiants

Citer

J. Arias-Zapata, D. Ferrah, H. Mehedi, G. Cunge, M. Zelsmann. Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2018, 36 (5), pp.05G505. ⟨10.1116/1.5035333⟩. ⟨hal-02364471⟩

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