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Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02364471
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : vendredi 15 novembre 2019 - 07:30:50
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:05

Identifiants

  • HAL Id : hal-02364471, version 1

Collections

CNRS | CEA | DRT | LETI | LTM | UGA | CEA-GRE

Citation

J. Arias-Zapata, D. Ferrah, H. Mehedi, G. Cunge, M. Zelsmann. Effective patterning and cleaning of graphene by plasma etching and block copolymer lithography for nanoribbons fabrication. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2018, vol. 36,, p. 05G505. ⟨hal-02364471⟩

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