Rethinking surface reactions in nanoscale dry processes toward atomic precision and beyond: a physics and chemistry perspective - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Japanese Journal of Applied Physics Année : 2019

Rethinking surface reactions in nanoscale dry processes toward atomic precision and beyond: a physics and chemistry perspective

Kenji Ishikawa
  • Fonction : Auteur
Tatsuo Ishijima
  • Fonction : Auteur
Tatsuru Shirafuji
  • Fonction : Auteur
Silvia Armini
  • Fonction : Auteur
Emilie Despiau-Pujo
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
Richard Gottscho
  • Fonction : Auteur
Keren Kanarik
  • Fonction : Auteur
Gert Leusink
  • Fonction : Auteur
Nathan Marchack
  • Fonction : Auteur
Takahide Murayama
  • Fonction : Auteur
Yasuhiro Morikawa
  • Fonction : Auteur
Gottlieb Oehrlein
  • Fonction : Auteur
Sangwuk Park
  • Fonction : Auteur
Hisataka Hayashi
  • Fonction : Auteur
Keizo Kinoshita
  • Fonction : Auteur

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02337524

Soumis le : mardi 29 octobre 2019-14:55:27

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:24:17

Consulter le texte intégral

Dates et versions

hal-02337524 , version 1 (29-10-2019)

Identifiants

Citer

Kenji Ishikawa, Tatsuo Ishijima, Tatsuru Shirafuji, Silvia Armini, Emilie Despiau-Pujo, et al.. Rethinking surface reactions in nanoscale dry processes toward atomic precision and beyond: a physics and chemistry perspective. Japanese Journal of Applied Physics, 2019, 58 (SE), pp.SE0801. ⟨10.7567/1347-4065/ab163e⟩. ⟨hal-02337524⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM PLASMA_ETCHING CEA-DRF
16 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More