Accéder directement au contenu Accéder directement à la navigation
Article dans une revue

Area selective deposition of TiO 2 by intercalation of plasma etching cycles in PEALD process: A bottom up approach for the simplification of 3D integration scheme

Type de document :
Article dans une revue
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02108939
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mercredi 24 avril 2019 - 14:52:13
Dernière modification le : samedi 1 août 2020 - 03:03:55

Identifiants

Collections

Citation

Rémi Vallat, Rémy Gassilloud, Olivier Salicio, Khalil El Hajjam, Gabriel Molas, et al.. Area selective deposition of TiO 2 by intercalation of plasma etching cycles in PEALD process: A bottom up approach for the simplification of 3D integration scheme. Journal of Vacuum Science and Technology A, American Vacuum Society, 2019, 37 (2), pp.020918. ⟨10.1116/1.5049361⟩. ⟨hal-02108939⟩

Partager

Métriques

Consultations de la notice

250