Procédés de dépôt plasma avec injection pulsée de précurseurs (PECVD et PEALD) : Impact du réacteur et de la pression et développement de dépôts sélectifs - Université Grenoble Alpes
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Procédés de dépôt plasma avec injection pulsée de précurseurs (PECVD et PEALD) : Impact du réacteur et de la pression et développement de dépôts sélectifs

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01960487

Soumis le : mercredi 19 décembre 2018-14:20:43

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01960487 , version 1 (19-12-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01960487 , version 1

Citer

C. Vallee, R. Gassilloud, R. Vallat, V. Pesce, S. Belahcen, et al.. Procédés de dépôt plasma avec injection pulsée de précurseurs (PECVD et PEALD) : Impact du réacteur et de la pression et développement de dépôts sélectifs. Journées du réseau plasma froid, Oct 2018, La Rochelle, France. ⟨hal-01960487⟩

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