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Communication dans un congrès

Nucleation of HfO2 on Si, SiO2 and TiN substrates in PE-ALD processes investigated by in situ ellipsometry and Optical Emission Specroscopy (OES)

Type de document :
Communication dans un congrès
Liste complète des métadonnées

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01959025
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : mardi 18 décembre 2018 - 13:56:57
Dernière modification le : mardi 6 octobre 2020 - 16:30:03

Identifiants

  • HAL Id : hal-01959025, version 1

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Citation

M. Bonvalot, S. Belahcen, V. Pesce, A. Chaker, P. Gonon, et al.. Nucleation of HfO2 on Si, SiO2 and TiN substrates in PE-ALD processes investigated by in situ ellipsometry and Optical Emission Specroscopy (OES). AVS 65th International Symposium 2018, Oct 2018, Long Beach, United States. ⟨hal-01959025⟩

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