Communication Dans Un Congrès
Année : 2018
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01959025
Soumis le : mardi 18 décembre 2018-13:56:57
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01959025 , version 1
Citer
M. Bonvalot, S. Belahcen, V. Pesce, A. Chaker, P. Gonon, et al.. Nucleation of HfO2 on Si, SiO2 and TiN substrates in PE-ALD processes investigated by in situ ellipsometry and Optical Emission Specroscopy (OES). AVS 65th International Symposium 2018, Oct 2018, Long Beach, United States. ⟨hal-01959025⟩
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