Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas - Université Grenoble Alpes
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2018

Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01954910

Soumis le : vendredi 14 décembre 2018-09:17:07

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-18:19:16

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01954910 , version 1 (14-12-2018)

Identifiants

Citer

V. Martirosyan, O. Joubert, E. Despiau-Pujo. Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas. Journal of Physics D: Applied Physics, 2018, 52 (055204), ⟨10.1088/1361-6463/aaefe0⟩. ⟨hal-01954910⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS LTM PLASMA_ETCHING ANR
38 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

More