Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2018
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01954910
Soumis le : vendredi 14 décembre 2018-09:17:07
Dernière modification le : jeudi 18 avril 2024-12:45:53
Citer
V. Martirosyan, O. Joubert, E. Despiau-Pujo. Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas. Journal of Physics D: Applied Physics, 2018, 52 (055204), ⟨10.1088/1361-6463/aaefe0⟩. ⟨hal-01954910⟩
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