Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2018

Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01954910

Soumis le : vendredi 14 décembre 2018-09:17:07

Dernière modification le : jeudi 18 avril 2024-12:45:53

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Dates et versions

hal-01954910 , version 1 (14-12-2018)

Identifiants

Citer

V. Martirosyan, O. Joubert, E. Despiau-Pujo. Modification mechanisms of silicon thin films in low-temperature hydrogen plasmas. Journal of Physics D: Applied Physics, 2018, 52 (055204), ⟨10.1088/1361-6463/aaefe0⟩. ⟨hal-01954910⟩

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