Nanopatterning via Self-Assembly of a Lamellar-Forming Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Diblock Copolymer on Topographical Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography - Université Grenoble Alpes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Nanomaterials Année : 2018

Nanopatterning via Self-Assembly of a Lamellar-Forming Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Diblock Copolymer on Topographical Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography

Dipu Borah
  • Fonction : Auteur
Cian Cummins
  • Fonction : Auteur
Sozaraj Rasappa
  • Fonction : Auteur
Ramsankar Senthamaraikannan
  • Fonction : Auteur
Mathieu Salaün
Optique et Matériaux
CV
Marc Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique
George Liontos
  • Fonction : Auteur
Konstantinos Ntetsikas
Apostolos Avgeropoulos
Michael Morris
  • Fonction : Auteur

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01954872

Soumis le : vendredi 14 décembre 2018-08:33:25

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:36

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Dates et versions

hal-01954872 , version 1 (14-12-2018)

Identifiants

Citer

Dipu Borah, Cian Cummins, Sozaraj Rasappa, Ramsankar Senthamaraikannan, Mathieu Salaün, et al.. Nanopatterning via Self-Assembly of a Lamellar-Forming Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Diblock Copolymer on Topographical Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography. Nanomaterials, 2018, 8 (1), pp.32. ⟨10.3390/nano8010032⟩. ⟨hal-01954872⟩

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